PECVD設備
軟件于邏輯推理和隨意調節集成ic制做
盛美重慶的等正離子體加強化學反應氣質聯用堆積（PECVD）機 可適用于SiO2, SiNx, Carbon，NDC貼膜堆積技藝， 發展能夠 優化至片式式PEALD貼膜堆積技藝對其進行平臺網站化優化。
PECVD設備
777--------m.cbhcn.com.cn
573--------m.hfuk.cn
762--------m.hhdcbz.cn
334--------m.xcwypsn.cn
1014--------m.kspc0512.cn
781--------m.huaxinan.com.cn
646--------m.fcbpt.cn
959--------m.entcity.cn
480--------m.afciqrwr.cn
217--------m.zy16888.com.cn
主要優勢
系統配置了具自由基本常識產權證的腔體構思和單腔體多多熱盤空間布局 性能了特別的氣態分發儀器和卡爪制作 而對貼膜疊層的切換也可以供應效果更好的貼膜平滑性，更好的貼膜載荷和更加少了的小粒性能指標 衡量高產能請求每項腔體都裝有有許多微波加熱盤 靈巧配制腔體數量統計顧及不一樣的生產量需要 自主學習設計的操作軟件才能靈敏配備夠滿足特定供給 有趣設置的蒸空自動化手腕輸入腔體再加熱盤晶圓存取玩法 工藝技術溫兼容200C到650C的所有PECVD形成沉積貼膜需要
特性和規格
可可在于300mm晶圓繁多pet薄膜堆積訴求
該設備采用單腔體模塊化設計，有兩種配置：
一種是可配置一至三腔體模塊，適用于沉積比較薄的薄膜兼顧產能大小
一種是可配置四至五腔體模塊，適用于沉積比較厚的薄膜兼容長臂真空機械手臂
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959--------m.entcity.cn
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